摘要
随着下一代通信和装备向着更大带宽和更高精确度的方向发展,毫米波太赫兹频段成为微波技术研究的重点方向。发射功率是太赫兹系统中的关键指标,功率的大小直接决定了系统的作用距离。近些年来,毫米波太赫兹频段的固态功率器件取得了显著进步,推动了国内外太赫兹固态功率放大器的工程实现。本文介绍了国际上毫米波太赫兹频段功率合成技术和固态功放的研究现状,以及我国特别是南京电子器件研究所在W波段与G波段基于径向功率合成技术、矩形波导合成技术以及硅基波导合成技术的固态功放模组的最新研究进展。
毫米波太赫兹频段相比微波频段具有频谱范围宽、信息容量大、分辨力高、抗干扰性好等优点,对于高精确度装备发展和下一代通信技术的发展具有重大意
随着国内外化合物半导体技术的发展,单个功率器件的输出功率目前在W波段达到了数瓦的量
2010年前后,国外开始出现了基于GaN HEMT(High Electron Mobility Transistor)工艺的W波段功放芯片研究报道。随后,关于W波段的功率合成的研究报道陆续发布。2014年以后,国外出现了基于InP HBT(Heterojunction Bipolar Transistors)的G波段功放芯片的研究报道,随后美国发布了多个G波段功率合成研究成果的报道。
美国HRL(Hughes Research Laboratory)实验室2012年发布W波段GaN功率放大器芯片,实现在93.5 GHz处最大输出功率2.138 W,效率为19%;在92~96 GHz频段内,输出功率大于1.5 W,效率大于17.8
美国Quinstar公司2015年发布W波段GaN功率放大器芯片。采用美国HRL公司0.1 μm GaN HEMT工艺研制的W波段功放芯片,在75~100 GHz频率范围内,输出功率大于2 W,最大输出3.1
2019年,Teledyne公司发布一款基于InP HBT的功放芯片,在115~150 GHz可获得超过125 mW的输出功率,在140 GHz处大信号增益17.5 dB,功率附加效率(Power Added Efficiency,PAE)为9.8%,可获得153 mW的最大输
Quinstar公司还发布了多项功率合成的研究成果,2010年将12路400 mW功放芯片进行合成,频率范围为94~98 GHz,获得5 W的输出功率,合成效率为87.5
2022年,美国Raytheon公司提出一种W波段脉冲固态功率放大器,采用128路合成器合成128个高性能GaN功放芯片,在92~96 GHz频段内,实现在脉宽30%的脉冲输入下,输出功率大于63 W,最大功率79 W;在脉宽0.1%的脉冲输入下,最大输出功率能达到100

图1 Raytheon公司W波段100 W合成固态功放
Fig.1 W-band 100 W synthesized solid-state power amplifier of Raytheon
由于G波段功率器件起步较晚,国内外报道较少。2014年NG公司报道了一款G波段功率放大器,芯片采用250 nm InP HBT工艺,总的发射极面积为18 μ
90 mW,PAE为10
芯
2019年,德国斯图加特大学的Benjamin Schoch联合弗劳恩霍夫应用固体物理研究所提出一种基于35 nm InGaAs的宽带H波段功率放大器。在264 GHz处小信号增益14.7 dB;在280 GHz处输出饱和最大功率6.7 dB
2020年,Teledyne公司提出一种基于250 nm InP工艺的G波段功率放大器,在160~185 GHz频率范围内,饱和输出功率大于177 mW,增益大于12.2 dB,PAE大于5.4%;最大输出功率在
170 GHz处为244 mW,增益14.1 dB,PAE为7.5
2022年,Teledyne公司基于250 nm InP HBT工艺,设计了一种G波段功率放大器。在150~175 GHz频段内,输出功率为204~250 mW,增益大于17 dB,PAE为13.1%~15.7
2015年,美国Raytheon公司采用70 mW功放芯片实现了32路合成的功放模组,在220 GHz输出功率大于700 m

图2 Raytheon公司G波段32路波导合成功放
Fig.2 G-band 32-channel waveguide composite power
amplifier of Raytheon
2016年起,南京电子器件研究所陆续发布了多种W波段GaN功放芯片。基于自主0.1 μm GaN HEMT工艺,实现了3款功放芯片,如

图3 三款W波段GaN功放芯片
Fig.3 Three kinds of GaN power amplifier chips
2020年,杭州电子科技大学提出一种基于GaAs的W波段功率放大器,在84~100 GHz频率范围内,平均小信号增益为15 dB,平均饱和输出功率为21.5 dBm(141 mW)。在工作频率为88 GHz时,可实现22.3 dBm(170 mW)的峰值饱和输出功
2021年,中国电子科技集团公司第十三研究所提出一种基于GaN HEMT的W波段单片微波集成电路(Monolithic Microwave Integrated Circuit,MMIC)。测试结果表明,在漏源工作电压15 V,88~92 GHz频率范围内,该MMIC的线性增益大于15 dB,饱和输出功率大于3
南京电子器件研究所采用50 nm GaN工艺研制的G波段功放芯片,如

图4 G波段GaN功率放大器MMIC
Fig.4 G-band power amplifier MMIC
2021年,清华大学设计了基于低损耗槽线功率梳理技术的高效宽带毫米波集成功率放大器,在161 GHz时可实现30.7 dB的峰值功率增益、40 GHz的3dB小信号增益带宽、18.1 dBm的最大饱和输出功率和12.4%的峰值PA
本节将主要介绍南京电子器件研究所在毫米波太赫兹频段固态功率合成技术及合成功放模组的一些最近研究进展,针对径向功率合成技术、矩形波导合成技术以及硅基波导功率合成技术进行介绍。
径向合成技术由于其一次性合成的特点,是一种常见的功率合成结构。传统的径向合成结构通常采用同轴结构激励,随着工作频率提高,同轴结构加工难度越来越高。南京电子器件研究所在毫米波太赫兹频段提出了几种结构简洁、易于加工的径向功率合成结构。
1) W波段TE01模式圆波导径向合成
圆波导TE01模的磁力线径向指向圆波导中心,当矩形波导由圆波导的侧壁进入时,能激励起圆波导的TE01模式。围绕圆波导的侧壁插入多个矩形波导激励,可实现多路径向功分合路结构。南京电子器件研究所基于该原理,设计了一种W波段16路径向合成器。该合成器的公共端由圆波导TE01模激励,16个支路为矩形波导TE01模,相邻支路之间呈22.5°均匀布局,并设计了一种TE01模式圆波导-矩形波导新型模式转换器。将该转换器与合成器连接,完成了矩形波导-矩形波导的径向合成结构,如

图5 16路TE01模径向合成器
Fig.5 16-channel TE01 mode radial power combiner
2) W波段TM01模式圆波导径向合成
南京电子器件研究所设计了一种TM01模径向合成器,将圆波导置于径向波导中心,通过一个圆柱形台阶结构,激励出TEM模并实现阻抗匹配,使信号在径向波导内传播,并在波导外圈均匀地围绕8个矩形波导实现8路合成。同时设计了一种TM01圆波导—矩形波导的模式转换器,将该模式转换器与8路径向合成器连接,完成标准波导-标准波导的径向合成结构。对该8路合成结构进行实测,实物如

图6 8路TM01径向合成器
Fig.6 8-channel TM01 mode radial power combiner
3) G波段全波导径向合成
在G波段,南京电子器件研究所设计了一种4路波导高效合成器。该合成器由5个矩形波导直接组成,1个输出波导,4路输入波导呈径向分布。通过结构正中心的圆柱凸台,一次性实现了4个支路的阻抗匹配。4路径向波导合成器实物如

图7 G波段4路径向波导合成器
Fig.7 G-band 4-channel radial power combiner
矩形波导T型结是波导二进制合成中经典的结构,广泛用于功率合成模组中。南京电子器件研究所基于该结构的功率合成器,设计出W波段、G波段的固态功率放大器模块。
南京电子器件研究所基于双面布局的小型化T型结合成结构,设计了一种8路合成的W波段合成器。每一路连接2 W的功放模块,最终完成了92~95 GHz输出15 W的固态功放模组,如

图8 W波段15 W小型化功放模块
Fig.8 W-band 15 W miniaturized power amplifier module
南京电子器件研究所进一步通过64路矩形波导T型结合成结构,实现了W波段100 W输出的固态功率放大器模组,该模块外形尺寸为185 mm×115 mm×110 mm,如

图9 W波段100 W小型化功放模块
Fig.9 W-band 100 W miniaturized power amplifier module
2) G波段1 W固态功率放大器
南京电子器件研究所采用16路波导T型结合成结构和自主研发的GaN功放芯片,研制了G波段瓦级合成功放模块,如

图10 G波段1 W固态功率放大器
Fig.10 G-band 1 W power amplifier module
前文提到的合成器采用的加工方法都是传统的机械加工工艺,随着频率的进一步升高,这种工艺传输损耗将越来越大。同时传统的金属机械加工方式通常采用螺钉固定,在高频段,螺钉的尺寸已远大于波导口的尺寸,将大大增加额外的波导传输尺寸,造成额外的传输损耗。为解决这一问题,提出了基于硅微机械加工技术的波导电路结
硅微机械加工技术即采用微机电系统(Micro-Electro-Mechanical System,MEMS)技术,通过刻蚀、掩膜、镀金、键合等工艺实现波导腔。采用这种工艺制作的波导结构,具有极好的加工精确度和极高的光洁度,且不再需要额外尺寸用于固定,因此也具有较好的合成效率。
南京电子器件研究所采用了自主8 in MEMS工艺平台,制作了一款H-T硅基波导合成器。该合成器的尺寸为12 mm×9.5 mm×1.45 mm,如

图11 H-T硅基波导合成器
Fig.11 Silica-based 4-channel power combiner
2) 基于硅基波导的功率合成放大器模组
基于上述H-T硅基波导合成器,结合南京电子器件研究所W波段GaN功放芯片,研制了一个两路合成的功放模块。

图12 2路硅基合成功放模块
Fig.12 Silica-based 2-channel amplifier module
在上述研究基础上,南京电子器件研究所采用1个硅基3 dB电桥和2个硅基H-T波导合成器级联的结构制作了一个4路合成器,并实现一款4路合成的固态功放模块,如

图13 4路硅基合成功放模块
Fig.13 Silica-based 4-channel power amplifier module
结合上述硅基波导功率合成技术和径向功率合成技术的研究成果,南京电子器件研究所采用自主8 in MEMS工艺平台,研制了W波段硅基径向功率合成器。以TM01模作为传输主模实现8路合成,同时研制了TM01模式转换器,实现圆波导TM01模到矩形波导TE10模式的转换。通过集成南京电子器件研究所最新研制的W波段4 W GaN功放芯

图14 硅基径向合成功放模块
Fig.14 Silica-based radial power amplifier module
本文总结了近年来国内外,特别是南京电子器件研究所,在W波段和G波段基于功率合成的功率放大器的研究成果。南京电子器件研究所立足自主GaN芯片,以实现基于高效功率合成的大功率小型化固态功率放大器为目标,对W波段和G波段固态功率合成的相关理论和工程技术展开深入研究。研制了圆波导径向功率合成器、基于矩形波导合成的太赫兹功放模块以及基于微机械加工工艺的硅基波导合成功放,实现的W波段100 W固态功放模块、G波段1 W固态功放模块等指标具备较高的先进性。研制的圆波导W波段径向合成器相比于Quinstar公司提出的径向合成
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