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基于BIC的太赫兹全介质单向导模谐振超表面  PDF

  • 吴佳奕 a,b
  • 欧阳春梅 a,b
a. 天津大学,精密仪器与光电子工程学院,天津 300072; b. 天津大学,太赫兹研究中心,天津 300072

中图分类号: O441.4

最近更新:2025-03-06

DOI:10.11805/TKYDA2024545

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摘要

提出一种具有高Q值的全硅结构超表面,由上下两层硅方柱构成,可通过调节上下两层结构的x方向错位距离,打破面外σz对称性,在不同晶格矢量kx处实现完美连续域束缚(BIC)态、偏振敏感的准BIC态和单向导模谐振(UGR)态的自由调控。值得注意的是,由于所提出的超表面工作在动量空间,结构对于实空间入射光的空间位置没有严格的限制。仿真结果表明,在分别打破结构几何对称性和外界入射角度对称性后,准BIC可获得103~104量级的Q值,产生的准BIC能量泄露可通过磁偶极子的不完全相消干涉解释。通过改变上下两层横向间距,可在偏离Γ点的位置实现最大单向辐射度为97.5%的单向辐射。该工作在生物化学传感、高性能通信、高效光栅耦合等领域展现出重要的应用潜力。

太赫兹波(THz)是介于微波和红外波段之间的电磁波,频率在0.1~10 THz范围[

1-2]。由于其高安全性、高穿透性和宽带性等独特的性质,在生物监测、安全检查、医学成像等领域引起越来越多的关[3-4]。其中,具有高Q值和高灵敏度的太赫兹功能器件至关重要。目前大多数的太赫兹谐振器件都受材料损耗的影响,因而其Q值较低。连续域束缚态(BIC)是一种完全被局域在连续域中的本征模式,不向外辐[5]。超表面是由人工微结构组成的新型人工材[6-7],通过设计单元结构的参数,可实现在亚波长尺度范围对BIC谐振频率与Q值的自由操控。此外,缺乏高效的集成化器件也是限制太赫兹波广泛应用的一大因素。目前用于实现单向辐射的金属反射镜在集成化时会出现体积大,结构复杂,引入额外损耗等问题。平面光子晶格中的单向导模谐振(UGR)是只向一个方向辐射的特定的光学本征态,其独特的定向辐射源于结构本身的拓扑特征。与传统方法不同,UGR不需要额外的光学反射器件,为单向辐射提供了一种精简的方法。2020年,YIN[8]通过改变一维周期性光子晶体板的截面方向倾斜角,打破面内镜面对称性和面外σz方向对称性,使上下辐射通道的拓扑奇点(V点)分裂为2个C点,再通过继续增加结构的倾斜角度,在其中一个辐射通道上2个C点再次合并为一个V点,形成了一个拓扑保护的UGR通道。2021年,ZENG[9]通过堆叠2个一维周期性光子晶体板并错位的方式,打破了σz方向对称性,通过不对称度调节上下辐射通道,同样实现了UGR。

上述方式需要倾斜刻蚀工艺或是悬空的周期性结构,是目前太赫兹波段加工工艺难以实现的。对此,本文提出一种太赫兹全介质URG超表面,其结构由一个中间硅衬底和上下两层二维周期性全硅介质柱构成,无需采用倾斜刻蚀工艺或悬空结构,仅通过调节上下两层结构的相对位置控制结构本征偏振的变化,实现BIC态、准BIC态、泄露模态和UGR态的切换。所提出的结构在高性能低损耗通[

10]、时空光调[11]、激[12-14]和高性能光学天线等领域中展现出重要的应用潜力。

1 结构设计

金属结构超表面由于其辐射损耗较高,产生的准BIC谐振Q值较[

15-18]。因此,本文提出一种双层硅柱全介质超表面,通过超表面上下两层结构之间、结构和衬底之间的互作用实现不同模态的激发,避免采用复杂的倾斜刻蚀工艺。组成超表面的上下两层单元结构均为高度t=120 μm,边长a=150 μm的具有C4v对称性的方形硅柱,硅的折射率为3.4,电阻率为10 kΩ/cm,单元结构周期p=300 μm,中间衬底厚度h=200 μm,超表面上下两层分别距离晶格中心位置向x和-x方向错位dx,共在x轴方向错位2dx,如图1所示。通过调节几何参数dx,可在动量空间中实现BIC态、准BIC态和UGR态的自由切换。

图1  双层超表面及其单元结构示意图

Fig.1  Schematic diagram of the bilayer metasurface structure and the unit cell

2 结果与讨论

本文首先使用COMSOL仿真软件的有限元方法(Finite Element Method,FEM)计算结构初始状态dx=0、具有面外σz方向对称性的能带,如图2(a)所示,能带的颜色表示结构在该k矢量处的Q因子。BIC态具有无穷的Q因子,表明在结构内部能量完全局域化;当改变dx的值时,面外σz方向对称性被打破,BIC态转变为有能量泄露的准BIC态。图2(b)为不对称度dx=36 μm时的能带图。注意到,相对dx=0时,其面外σz方向对称性被打破,元胞中心Γ点处的Q值快速降低,形成了BIC态到准BIC态的变化。

图2  超表面在x方向的能带曲线

Fig.2  Band curves of the metasurface in the x-direction asymmetry

结构在dx=0和dx=36 μm时,对xy偏振的频谱响应如图3所示。采用频域有限元方法求解,其中xy方向分别设置unit cell单元周期边界条件,z方向设置open开放边界条件。在x偏振和y偏振入射下,xy方向的透射率分别如图3(a)和图3(b)所示。注意到,面外σz方向对称性被打破,y偏振入射下会产生2个准BIC谐振峰,而x偏振入射下则只会轻微改变原有谐振峰的线宽,并不会出现新的谐振峰。这是由于dx的改变使x=0方向的平面内镜面对称性被打破,而y=0方向的平面内镜面对称性依旧得到保留。xy方向上的平面内镜面对称性不同,结构可产生2个偏振敏感的准BIC谐振峰Q-BIC1和Q-BIC2,分别为0.413 THz处的BIC1和0.423 THz处的BIC2。如图3(b)所示。图3(c)和图3(d)给出了透射率和dx值、频率的变化关系,白色圆圈表示完全对称情况下,谐振线宽达到无穷窄,Q值无穷大的BIC位置。图3(e)和图3(f)则为结构在dx=0没有打破面内σxσy和面外σz对称性的情况下,在xy偏振入射下透射率随着入射角度θ的变化。维持结构的几何对称性,打破入射光的入射角度,同样可在微扰角度为0时观察到BIC点。频谱计算出的BIC位置与图2(a)中的2条高Q的模式TE0和TE1Γ点的结果吻合。研究结果表明,对称保护准BIC的Q值和不对称度参数的负二次方成正[

19],这与本文的仿真结果相符。Q值计算结果可由Q=f0/fFHWM给出,其中f0为谐振峰中心频率,fFHWM为半高全宽。本文仿真结果表明,在y偏振正入射下,不对称度dx=36 μm处,模式TE0产生的准BIC的Q值可达到714,线宽为0.578 GHz;模式TE1产生的准BIC的Q值可达到199,线宽为2.124 GHz。固定dx=0 μm,入射角θ=5°下,模式TE0产生的准BIC的Q值可达到4 636,线宽为0.088 GHz。结果表明,与金属结构相比,全硅结构的准BIC的Q值提高了1~2个数量[15-18]

图3  超表面在不同偏振下的透射谱

Fig.3  Transmission spectrum of metasurface under different polarizations

为进一步探究准BIC峰的产生,本文研究了BIC1处的磁场分布,如图4所示。图4(a)、图4(b)和图4(c)分别为dx=0θ=0°dx0θ=0°dx=0θ0°时的磁场分布,其中背景颜色表示磁场z分量的大小,白色箭头代表磁场分量的方向。在图4(a)所示的dx=0θ=0°的情况下,面内和面外对称性均没有被打破,因此表现出完美束缚的BIC模式。保持θ=0°,随着dx的增大,面内σy对称性和面外σz对称性被打破,在y偏振入射下,上下磁偶极子不能完全干涉相消,形成辐射泄露的准BIC态,如图4(b)所示。同样,保持dx=0,在入射角θ0°的情况下,虽然结构的几何参数是维持面内和面外对称性的,但由于外界入射的扰动,上下表面磁偶极子不完全干涉相消,由BIC态转变为准BIC态(见图4(c))。

图4  磁场z分量强度分布

Fig.4  Intensity distribution of z-component of magnetic field

除了BIC和准BIC态的切换,在偏离单元结构中心Г点处,通过精细调节结构的几何参数,可得到UGR辐射。首先从能带角度对UGR的产生进行分析:在dx=0时,带TE1和带TE2由于对称保护,分别具有完美的偶电场和奇电场分布,且彼此正交,如图5(a)所示。在图2(a)中允许它们的能带在结构的k空间矢量位于kx/K=0.12处产生能带的交叉而互不干扰。通过调谐x方向间距参数dx,在dx=36 μm时,由于面外σz对称性被打破,导致其能带的交叉在kx/K=0.12处被禁止,TE0和TE1模式产生互作用,能带由交叉互不干扰变为相互作用的劈裂状态,如图2(b)所示。TE1和TE2模式的复本征频率分别为Ω1=ω1-iγ1Ω2=ω2-iγ2,其中ωiγi(i=1,2)分别表示实本征频率和虚部衰减部分。根据耦合模理论,结构的哈密顿量可表示[

20]

 =Ω1ααΩ2-i0ββ0 (1)

式中αβ分别为模式的近场和远场耦合。本征态可表示为:

Ψ+,-(kx)=c1+,-ψ1(kx)+c2+,-ψ2(kx) (2)

式中:ψ1(kx)ψ2(kx)为2个模式没有耦合时的本征态;c1+,-c2+,-为哈密顿量的特征向量。特征值可表示为:

Ω+,-=Ω1+Ω22±(Ω1-Ω2)24+(α-iβ)2 (3)

特征值的实部x=(Δω)2-(Δγ)2+4(α2-β2),虚部y=-2(ΔωΔγ+4αβ)。对于TE1和TE2模式,当没有打破面外对称性时,式(3)的特征值的根号项的实部和虚部分别为x=(Δω)2-(Δγ)2+4(α2-β2)y=-2(ΔωΔγ+4αβ)。2个具有不同电场奇偶性分布的模式TE1和TE2互作用,在没有打破面外不对称度时,没有模式间互作用,近场耦合系数α=0,当Δω=0时,满足x<0, y=0,此时本征模式简并,能带交叉。当打破面外不对称度时,近场耦合系数α0,远场耦合系数β=±γ11γ21-γ12γ22,其中γmn(m,n=1,2)表示模式TEm和上下辐射端口(分别为1号和2号端口)的衰减因子。此时不能同时满足条件x<0, y=0,本征模式不再简并,出现能带劈裂,这与FEM分析结果吻合。

图5  超表面互作用模式的电场分布和Q

Fig.5  Electric field distribution and Q value of the metasurface interaction modes

通过调谐x方向间距参数dx,可以影响上下两层结构之间的近场和远场耦合,从而可以在能带劈裂的互作用区域观察到UGR等现象。2个模式的相互作用会产生一个非对称保护的高Q值FW(Friedrich-Wintgen)-BIC模式和一个低Q值的UGR辐射模式,其Q值如图5(b)所示,这与图2(b)的能带结果体现的Q值相吻合。为更好地描述UGR现象,本文引入辐射不对称度η=|Eup-Edown|/|Eup+Edown|,其中EupEdown分别表示结构向上和向下辐射远场辐射的电场模。

调谐结构的k空间矢量kxx方向间距参数dx,当dx=36 μmkx/K=0.12时,结构产生最大的辐射不对称度η=0.975 6,意味着97.56%的光子可通过器件耦合后单向传输。BIC模式、辐射模式和UGR模式的电场Ey分量如图5(c)~图5(e)所示。由于结构的面内存在C2对称性,当结构位于kx/K=-0.12时,可以观察到和图5(e)对偶的向下单向辐射的UGR态。值得注意的是,这里的UGR可以解释为TE1和TE2两个模式相互作用以后,由于其场分布的z方向奇偶对称性不同,导致其在一个辐射方向干涉相消,能量无法向外辐射形成BIC态,而另一个辐射方向上则不能够完全干涉相消,形成辐射态。

3 结论

本文提出了一种新型全硅结构超表面,该结构采用双层硅方柱设计,通过调整两层间的水平间距dx,有效破坏了面外的σz对称性,在不同的晶格矢量kx下,能够精确调控完美束缚的BIC态、偏振敏感的准BIC态以及UGR态。与金属结构相比,全硅结构的准BIC态展现出更高的Q值和更窄的线宽。仿真分析进一步证实,在破坏结构的几何对称性和改变入射角度的对称性后,准BIC态的Q值可达103~104量级。此外,通过磁偶极子的不完全相消干涉机制,可解释准BIC态的能量泄露现象。研究还发现,通过调整dx,可在非Γ点位置产生定向辐射。从能带理论角度分析,具有不同奇偶对称性的TE模式可通过带间耦合相互作用,导致能带劈裂,并在能带交界处形成准BIC态和UGR态。本研究提出的结构设计简化了制造过程,仅需调整x方向间距dx即可实现准BIC态和UGR态的调控,无需复杂的倾斜刻蚀步骤。该工作在生物化学传感、高性能通信和高效光栅耦合等领域展现出巨大的应用潜力。

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